Intel oficjalnie potwierdził rozpoczęcie masowej produkcji z wykorzystaniem najnowocześniejszych skanerów litograficznych High-NA EUV. Od 15 lipca 2026 roku technologia ta jest wykorzystywana do wytwarzania wybranych warstw w procesorach Panther Lake, czyli jednostkach Core Ultra Series 3 przeznaczonych do laptopów. Jest to kamień milowy w branży półprzewodników, ponieważ Intel stał się pierwszym producentem, który z powodzeniem wdrożył te zaawansowane maszyny w procesie komercyjnym.
Skaner High-NA EUV, dostarczony przez firmę ASML, to gigantyczne urządzenie o masie 165 ton, którego koszt zakupu wynosi około 380 milionów dolarów (ponad 1,5 miliarda złotych). Maszyna ta pozwala na uzyskanie znacznie wyższej rozdzielczości druku na krzemie niż dotychczas stosowane systemy. Dzięki zwiększeniu apertury numerycznej (NA) z 0,33 do 0,55, optyka urządzenia jest w stanie skupić szerszy stożek światła, co przekłada się na możliwość tworzenia drobniejszych detali w pojedynczym cyklu naświetlania.
Dlaczego High-NA zmienia zasady gry?
Tradycyjne metody litografii często wymagają wielokrotnego naświetlania tej samej warstwy, aby uzyskać pożądany wzór. Każdy dodatkowy krok zwiększa ryzyko defektów, wydłuża czas produkcji i podnosi koszty. Technologia High-NA pozwala zastąpić kilka takich kroków pojedynczą ekspozycją. Choć maszyny te są znacznie droższe w zakupie i instalacji, ich efektywność w redukcji liczby etapów produkcyjnych staje się kluczowa w miarę miniaturyzacji układów scalonych.
Wdrożenie tej technologii wiązało się jednak z wyzwaniami fizycznymi. Zastosowanie nowej optyki wymusiło zmniejszenie pola obrazowania o połowę w porównaniu do standardowych maszyn EUV. Oznacza to, że w przypadku większych układów konieczne jest naświetlanie procesora w dwóch częściach i precyzyjne ich łączenie, co nazywamy procesem „stitching”. Mimo tych komplikacji, Intel potwierdził, że wydajność uzysku (yield) przy użyciu nowych skanerów jest obecnie na poziomie porównywalnym z tradycyjnymi systemami EUV.
Strategia Intela i przyszłość litografii
Decyzja o wdrożeniu High-NA w procesie 18A (odpowiednik klasy 2 nm) jest strategicznym ruchem Intela. Choć architektura Panther Lake mogłaby zostać wyprodukowana przy użyciu starszych metod, firma zdecydowała się na wczesną adopcję nowej technologii, aby zdobyć niezbędne doświadczenie i dopracować receptury procesowe przed nadejściem kolejnych generacji układów (14A/10A), gdzie High-NA stanie się niezbędne.
Warto zauważyć, że podejście do kosztów tej technologii jest przedmiotem debaty w branży. Modele analityczne sugerują, że opłacalność High-NA rośnie dopiero w momencie, gdy jedna ekspozycja zastępuje trzy lub więcej masek w tradycyjnym procesie. Mimo to, zainteresowanie maszynami ASML jest ogromne:
Dla przeciętnego użytkownika końcowego procesory wykonane w technologii High-NA nie będą wyróżniać się z zewnątrz – trafią do standardowych laptopów jako część oferty Intela. Firma zapowiedziała jednak, że w przyszłości technologia ta będzie dostępna jako opcja dla klientów zewnętrznych korzystających z usług Intel Foundry, co pozwoli im na szybsze wprowadzanie produktów na rynek dzięki redukcji liczby kroków produkcyjnych.